半导体加工废水怎么处理方法|半导体加工废水处理案例
该项目大环境
该打包芯片封装软件测试厂为于珠三边形的地方,大部分分娩BGA、QFP等融合电路体统打包芯片封装物料。渐渐产值提高,原本有废气进行除理方法进行除理体统超变压器容量运作,且无非高效进行除理新增加的含氰废气进行除理方法。工作创业1200千元进行创新,的设计进行除理工作能力800吨/日。
电镀废水基本成分及源头
含氰污废水 :电渡道工序行成,氰化物浓硫酸浓度30-50mg/L;
高氟化物化工废水:源于化学工业镀艺,氟化物有机废气浓度300-500mg/L;
充分污废水 :装封素材擦拭有,含树脂材料树脂材料等充分物;
腐蚀性废渣:各加工过程除垢水分层而成。
正确处理工艺技术具体步骤
改建后的体统运用"有机化学预治疗+生化模式治疗+高等级脱色"技艺风格:
含氰电镀废水工艺:
强碱氯化法:分两极破氰,七级腐蚀ORP操纵在300-350mV,三级腐蚀ORP>600mV;
免费监测系统:即时监控设备余氯和氰化物氨水浓度。
高高锰酸盐指数焦化废水除理:
吹脱塔预处置:pH调至11,气水比3000:1,氧化还原电位取除率70%;
短程硝化细菌细菌反硝化细菌细菌:调节DO在0.5mg/L下述,控制成本碳源25%。
总合加工系统软件:
蛋白质水解过酸池:提高了焦化废水可什么是生化性;
接处防氧化池:搭配人工湿地填料,气水比15:1;
高效性沉积池:斜管弹性填料,外层功率因数补偿1.0m³/(㎡·h)。
深浅治理单元测试卷:
Fenton氧化的:H2O2添加量200mg/L,Fe²⁺80mg/L;
菌物灵家用活性炭滤池:进两步除去COD和碱度。
终结作用
拆除后体统使用固定,冒水COD<40mg/L、化学需氧量<5mg/L、总氰化物<0.2mg/L,多种完成指标远低于部位排卸规范标准。吨水处理技术投资成本从因为的11.两元降下来9.3元,年使用预算提高约52万元。飞灰形成量提高30%,垃圾防范预算相同变低。