半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
工程项目蓝本
该厂家正规的生产半导体设备用高纯氟化氢和六氟化钨,生活污水氟有机废气浓度不高且物质复杂性。原来的整工院艺成效不平衡,氟化物的排放一直不合格。楼盘投资人2一千万元构建专程整理基础设施,设计构思整理工作能力500吨/天。
废水处理工艺化学成分及主要来源
工业废水包括发源产量机械设备进行维护清洁和的废气洗涤剂:
氟铝离子有机废气浓度:1500-3500mg/L
含氢氧化钾根铁离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含轻微钨、钼等轻金属设计元素
整理施工工艺具体步骤
重要性高质量浓度特质,通过"采和+三级悠长岁月中+膜操作"加工制作工艺 :
废污水处理方法处理池:划分类别处理各个浓度值废污水处理方法
与现象池:分阶段中添加氢脱色反应钠和氢脱色反应钙,把控好终于pH至7.5-8.
斜管沉积池反馈池:添加PAC和PAM提高沉积结果
斜管析出池:有效率固液分離
多物质吸附器:剔除十分细小科粒
反融合系统化:宽度脱盐和除氟
厌氧颗粒废水溶缩出现脱水等系统:离心分离出现脱水等后厌氧颗粒废水清运专业处治
百度监测器设计:时实视频监控氟化合物密度和pH值
以后成果
加工平台电脑运行数据信息:
泡水氟阴离子平均值盐浓度:2800mg/L
出水出水氟亚铁离子渗透压:3.2mg/L(平均值)
氟清除率:99.9%这些
水工业废水处理率:达到65%
系统化一键化因素高,体现生活污水操作料工费降低了30%,年环保再生资源回收氟化钙副物料约400吨。