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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

新项目情况 该半导体技术开发公司隶属于华中省市,通常加工整合线路集成ic,日排出含氟化工污水约800吨。因当地人的环保符合要求提高了,原先加工设备是无法实现氟化物排出酸度底于5mg/L的新符合要求,公司注资1700万元扩建职业 含氟化工污水加工软件。 化工废水部分及源头 生活污水首要因为于集成电路芯片创造的过程中的刻蚀加工过程和清晰加工过程,首要污染破坏物比如: 氟阴阳离子氧浓度:300-800mg/L pH值:2- 含有极少量硅酸盐、磷酸二氢钠 微量分析天价属如铜、镍等 整理工艺设备的流程 采用了"预进行加工+药剂学乳浊液+淬硬层进行加工"搭配组合工艺技术: 设定池:稳定水体容量,设有pH在线视频监测方案 一級症状池:污泥脱水氢脱色钙,抑制pH至7-8,组成氟化钙石雕文化沉淀 特一级悠长岁月中池:悠长岁月中区分氟化钙淤泥 中级症状池:加药氯化钙和整合氯化铝,进一大步消除稳定度氟化合物 两级结晶池:两次结晶分离处理 砂滤装置:的还原漂浮物 吸性炭吸:删去有机酸物和少量巨资属 淤泥处里处里软件:板框压滤脱水器,淤泥处里含水量率降下来60%之下 决定性实际效果 系统化开机运行可靠后,溢水水体: 氟阳离子含量:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 高价属含氧量均不超过检测出限 完整达到《电子元器件工业生产水环境废水的排卸规范标准》(GB39731-2020)要,每次提高氟化物的排卸约180吨。

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